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グラビア塗布は,乾燥前のwet塗布膜厚1μm以下から数10μmの比較的薄い液膜を基材上へ塗布可能な技術として,広く用いられており,セルと呼ばれる凹みと土手と呼ばれるセル間の平坦部を設けたグラビアロールを用いる塗布方式であり,印刷においては凹版印刷と呼ばれる。セルは,ロール表面に対しローレット(転造彫刻),エッチング,またはダイレクトレーザー照射によって形成される。グラビアセルの形成方法等ついては,過去に『最近の化学工学60』1)『最近の化学工学68』2)にて紹介しているため詳細はこちらを参照願う。 この塗布方式は,セル内に塗布液を過剰充填する「充填プロセス」,余剰塗布液をドクターブレードと呼ばれるブレードで掻き取る「ドクタリングプロセス」,セルを基材へ接触させ転写させる「転写プロセス」の3つのプロセスが繰り返されることで塗布される(図1)。転写プロセスは更にダイレクト方式,オフセット方式,キス方式に分けられ,ロールと基材の回転方向によってそれぞれ正転・逆転の各操作がある(図2)。 これらの塗布方式は,食品包装材料からディスプレイや電池部材の高機能材料まで幅広く用いられ,食品包装等において...
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