※ 検索ワードを区切るスペースは半角でお願いします。
装置内流れの理想モデルとしてプラグフロー（一様速度分布）と層流管流れ（放物線速度分布）の2つがある。各々の理想流れについてその混合特性がトレーサー濃度のステップ応答とインパルス応答により表せる。特に層流管流れのインパルス応答はTaylor分散1）として有名である。CFD上でこれらの流れの非定常濃度変化をシミュレーションして，混合理論と比較する。なお反応を伴うプラグフロー管型反応器モデル（PFR）については第3回で解説したので参照されたい。 ...
Online ISSN : 2435-2292
Print ISSN : 0375-9253
PDFを閲覧するにはAdobe Readerが必要です。
お気に入りから削除しますか？
