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2021 Vol.85 No.9 特集

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特集 大気圧プラズマの特徴と諸特性

特集 大気圧プラズマCVD 法による分子ふるいシリカ膜の低温・高速製膜

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特集

大気圧プラズマの工学応用と社会実装,現状と未来
大気圧プラズマの装置構成

 岡崎らが,大気圧下で安定なグロー放電プラズマを生成することを見出した1, 2)後,多くの大気圧プラズマ生成方法が提案され,装置が開発されている。処理対象物の状態(固体,液体,気体)や大きさ,形状によって,装置構成も多様化している。
 装置構成を低圧プラズマ(減圧プラズマ,真空プラズマ)と比較すると,大気圧プラズマは高価な密閉容器や排気ポンプを必要としない利点があり,安価である。また,大気開放系でプラズマ処理ができるため,連続処理や長尺な対象物への処理も容易である。化学的観点からは,低圧プラズマと比較し,原料ガス分子密度が高く,処理に寄与する粒子を高密度に生成でき,処理能力が高くなる。
 本稿では,様々な大気圧プラズマ装置の中から,工業分野で社会実装が進んでいる,固体を主な処理対象物とし,表面の親水化や洗浄に用いられる酸化処理を担う熱非平衡(低温)大気圧プラズマ装置の構成などを紹介する。

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高島 成剛
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高島 成剛

Device Configuration of Atmospheric Pressure Plasma

Seigo TAKASHIMA

  • 2001年 名古屋大学大学院工学研究科博士課程修了 博士(工学)

  • (公財)名古屋産業振興公社 工業技術振興部 産業応用課長

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Online ISSN : 2435-2292

Print ISSN : 0375-9253

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