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2021 Vol.85 No.9 特集

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特集 大気圧プラズマの装置構成

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特集

大気圧プラズマの工学応用と社会実装,現状と未来
大気圧プラズマCVD 法による分子ふるいシリカ膜の低温・高速製膜

 プラズマ化学気相蒸着(CVD)法は,様々な薄膜デバイスの作製に不可欠な基幹技術である。大気圧プラズマCVD法は,大気圧下で発生させた反応性プラズマを用いて薄膜を形成するプラズマCVD法の一種であり,種々の機能性薄膜を低温で高速かつ大面積に作製できる技術として期待されている。特に,通常焼成等の高温処理が欠かせないシリカやチタニア等の無機薄膜の作製プロセスを大幅に低温化できることから,これら無機薄膜の常温常圧製膜技術の開発や,高分子基材上に無機薄膜を形成したフレキシブルデバイスの開発など,多様な研究が進められている。本稿では,大気圧プラズマCVD法の特長や応用について概説したのち,筆者らが取り組んできた大気圧プラズマCVD法による分子ふるいシリカ膜の低温・高速製膜技術の開発について紹介する。

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長澤 寛規
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長澤 寛規

Low-Temperature and Rapid Synthesis of Molecular Sieve Silica Membranes via Atmospheric-Pressure Plasma-Enhanced CVD

Hiroki NAGASAWA(正会員)

  • 2012年 東京大学大学院新領域創成科学研究科環境システム学専攻博士課程修了 博士(環境学)

  • 広島大学大学院先進理工系科学研究科化学工学プログラム 助教

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Online ISSN : 2435-2292

Print ISSN : 0375-9253

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