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プラズマプロセスは，プラズマを構成する電子，イオン，ラジカル，光の粒子と物質との相互作用によって生じる，非平衡物理化学反応場を活用した科学技術である。このような技術は，プラズマが半導体製造プロセスに導入されて以来，半導体産業とともに発展してきた。現在のシリコン大規模集積回路製造では，原子層毎のエッチングや薄膜堆積が必要であり，プラズマ中の粒子，特に，イオンやラジカルの密度とエネルギーを時空間で精密に制御し，固体との反応を原子層レベルで制御するプロセス技術の開発がおこなわれている。したがって，プラズマプロセスの進化なくして，人工知能（AI）を活用したデジタル社会（DX：デジタルトランスフォーメーション）を実現することはできないと言っても過言ではない。一方で，大気圧下で低温プラズマ（非平衡プラズマ：ガス温度が電子温度よりも低いプラズマ）を生成する技術が開発され，プラズマを液体や生体に照射できるようになり，プラズマと生体との相互反応場に注目が集まっている。特に，常温常圧のプラズマを生体に直接照射する，あるいは，プラズマを液体に照射して活性化した溶液（プラズマ活性溶液）の生体への注入による間接照射によって，がんの選択...
Online ISSN : 2435-2292
Print ISSN : 0375-9253
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